03

Jul . 2025

作為領先的垂直整合製造商(IDM),英飛淩在300mm氮化鎵生產路線圖方面取得突破

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英飛淩300mm GaN技術

隨著GaN半導體需求的持續增長,英飛淩正抓住這一趨勢,鞏固其作為GaN市場領先垂直整合製造商(IDM,以下同)的地位。 近日,公司宣佈其在 300mm晶圓上的可擴展GaN生產已步入正軌。 隨著首批樣品將於2025年第四季度向客戶提供,英飛淩有望擴大客戶群體,並進一步鞏固其作為領先氮化鎵巨頭的地位。

作為功率系統領域的領導者,英飛凌已經掌握全部三種材料的相關技術:矽(Si)、碳化矽(SiC)和氮化鎵 (GaN)。 憑藉更高的功率密度、更快的開關速度和更低的功率損耗,氮化鎵半導體可實現更緊湊的設計,從而減少智慧手機充電器、工業和人形機器人,以及太陽能逆變器等電子設備的能耗和熱量產生。

英飛凌全面擴大的300mm GaN生產規模將幫助我們更快為客戶提供更高價值的產品,同時推動實現Si和GaN同類產品的成本持平。在英飛凌宣布突破300mm GaN晶圓技術近一年後,我們很高興看到我們的過渡進程進展順利,並且業界已經認識到英飛凌GaN技術在我們的IDM戰略優勢下所發揮的重要作用。


Johannes Schoiswohl

英飛凌科技氮化鎵業務線負責人

英飛淩的生產策略主要以IDM模式為主,即擁有從設計到製造和銷售最終產品的整個半導體生產流程 公司的內部生產策略是市場上的一個關鍵差異化因素,具有多重優勢,如能提供更高品質的產品、更快的產品上市時間以及出色的設計和開發靈活性。 英飛淩致力於為氮化鎵客戶提供支援,並可擴大產能以滿足他們對可靠的GaN電源解決方案的需求。


憑藉其技術領先優勢,英飛淩已成為首家在現有大批量生產基礎設施內成功開發出300mm GaN功率晶圓技術的半導體製造商。 與現有的 200mm晶圓相比,300mm晶圓上的晶片生產在技術上更加先進,效率也顯著提高,因為更大的晶圓直徑可使晶片生產效率提高 2.3 倍。 這些增強的能力,加上英飛凌強大的GaN專家團隊,以及業界最廣泛的知識產權組合,恰好可以滿足基於GaN的功率半導體在工業、汽車、消費、計算和通信等領域快速普及,包括AI系統電源、太陽能逆變器、充電器和適配器以及電機控制系統等。


市場分析師預測,到2030年,GaN在功率應用領域的收入將以每年36%的速度增長,達到約25億美元[1] 英飛凌擁有專門的生產能力和強大的產品群組,去年發佈了40多款新型GaN產品,這使其成為尋求高品質GaN解決方案客戶的首選合作夥伴。


[1] Yole Group; 《功率碳化矽和氮化鎵化合物半導體市場監測,2025 年第二季度》


文章來源:英飛凌官微

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